SIMS谱分析

(CMA)     (ISO) (高新技术企业)

信息概要

SIMS谱分析，即二次离子质谱分析，是一种高精度的表面分析技术，通过离子束轰击样品表面产生二次离子，并利用质谱仪进行检测，从而获得元素的定性和定量信息。该技术广泛应用于材料科学、电子工业、生物医学等领域，对于产品质量控制、研发创新和故障诊断具有重要意义。检测服务能够提供准确的元素组成、深度分布和表面污染分析，帮助客户确保材料性能和安全，避免潜在风险，支持合规性要求。

检测项目

元素浓度分析，深度剖面测量，表面污染检测，同位素比率分析，成像分析，横向分布测定，定量分析，定性分析，杂质识别，氧含量测定，碳含量测定，氢含量测定，氮含量测定，金属离子分析，非金属离子分析，有机分子检测，无机物分析，薄膜厚度测量，界面特性研究，扩散系数计算，溅射速率校准，质量分辨率评估，灵敏度测试，检测限确定，空间分辨率分析，时间分辨率测量，样品制备指导，校准曲线建立，标准样品比对，实际样品应用

检测范围

半导体材料，金属材料，陶瓷材料，聚合物材料，生物样品，药品制剂，涂层材料，薄膜样品，纳米材料，复合材料，矿物样本，土壤样品，水样分析，空气颗粒物，电子器件，光学材料，磁性材料，超导材料，催化剂，化石燃料，环境样本，食品相关产品，医疗器械，化妆品，纺织品，建筑材料，能源材料，考古文物，法医证据，工业制品

检测方法

静态SIMS：采用低离子流密度进行表面分析，减少样品损伤，适用于元素定性检测。

动态SIMS：使用高离子流密度实现深度剖析，适合薄膜和界面研究。

飞行时间SIMS：基于飞行时间质谱原理，提供高质量分辨率成像能力。

磁 sector SIMS：利用磁场进行离子分离，具有高传输效率和精确度。

四极杆SIMS：采用四极杆质量分析器，适用于常规元素分析。

激光SIMS：结合激光烧蚀技术，用于难熔或特殊样品的分析。

簇离子SIMS：使用簇离子源减少样品损伤，增强有机分子检测灵敏度。

成像SIMS：通过扫描离子束获得元素分布图像，支持空间分辨率分析。

深度剖析SIMS：连续溅射样品表面，测量元素随深度变化曲线。

定量SIMS：通过标准样品校准进行精确浓度测量，确保结果可靠性。

定性SIMS：快速识别样品中的元素和化合物组成。

高分辨率SIMS：优化仪器参数提高质量分辨率，用于复杂样品分析。

低能量SIMS：采用低能量离子束减少表面损伤，适合敏感材料。

高能量SIMS：使用高能量离子束进行深层分析或特定应用。

三维SIMS：结合深度剖析和成像技术，重构三维元素分布图。

检测仪器

飞行时间二次离子质谱仪，磁式二次离子质谱仪，四极杆二次离子质谱仪，纳米二次离子质谱仪，台式二次离子质谱仪，高分辨率二次离子质谱仪，成像二次离子质谱系统，动态二次离子质谱仪，静态二次离子质谱仪，簇离子束二次离子质谱仪，激光辅助二次离子质谱仪，离子显微镜，离子微探针，二次离子质谱分析系统，表面分析仪

注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。