辉光放电质谱（GDMS）

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信息概要

辉光放电质谱（GDMS）是一种用于高灵敏度元素分析的检测技术，通过低压气体放电产生的离子进行质谱分析。该技术特别适用于高纯金属、半导体材料和特种合金等固体导体的直接成分分析，无需复杂的前处理。GDMS检测对材料质量控制、杂质溯源和产品失效分析至关重要，可同时测定从ppb到百分含量级别的70多种元素，确保航空航天、核能及电子行业关键材料的安全性和性能可靠性。

检测项目

主量元素含量,痕量金属杂质,非金属杂质,稀土元素总量,碱金属含量,碱土金属含量,过渡金属含量,卤素元素含量,铂族元素,放射性核素,氧含量,氮含量,碳含量,硫含量,氢含量,同位素比值,表面污染物,深度剖面分布,均匀性分析,掺杂浓度,超痕量杂质,材料纯度等级,电活性杂质,晶格缺陷元素,热稳定性元素

检测范围

高纯铜,单晶硅片,钛合金铸件,核级锆合金,钽溅射靶材,镍基高温合金,稀土永磁材料,半导体晶圆,超硬合金刀具,钼电极材料,钨铜复合材料,钕铁硼磁体,铂铑热电偶,锗单晶,砷化镓衬底,钴铬医用合金,金键合线,铟锡氧化物,钒铝合金,锆铌超导材料,铍铜合金,镓液金属,钪铝靶材,锑化铟探测器,铌钛超导线

检测方法

直流辉光放电质谱法（DC-GDMS）：利用稳定直流电场产生等离子体溅射样品

射频辉光放电质谱法（RF-GDMS）：适用于非导体材料的深度剖面分析

脉冲辉光放电模式：通过脉冲调制提高难电离元素检测灵敏度

高分辨率模式（HR-GDMS）：采用双聚焦质谱仪实现质量干扰分离

定量深度剖析（QDP）：结合溅射速率计算的三维元素分布分析

同位素稀释法：添加已知同位素标准实现绝对定量

相对灵敏度因子法（RSF）：基于标准物质建立元素响应校正

冷等离子体技术：降低背景干扰提高轻元素检测限

反应池技术：通过化学反应消除质谱干扰

多接收器检测：同时采集多个质量数提高分析效率

飞行时间质谱联用（TOF-GDMS）：实现全元素快速扫描

溅射产额校准：通过标准样品校正元素溅射率差异

基体匹配标准法：采用相似基体标准物质减少基体效应

低流量气体控制：优化氩气流速稳定放电特性

等离子体参数监控：实时调节功率压力维持放电稳定性

检测仪器

磁扇型高分辨质谱仪,四极杆质谱仪,飞行时间质谱仪,双聚焦质谱仪,射频电源发生器,直流脉冲电源,液氮冷却放电室,多接收器检测系统,超高真空样品锁,自动样品定位台,法拉第杯检测器,电子倍增器,半导体探测器,差分抽气系统,气体流量精密控制器,辉光放电离子源,等离子体诊断探头,恒温冷却循环装置,真空计,质谱分析软件工作站,样品前处理平台,溅射率监控装置,反应气体引入装置,离子光学透镜组,真空锁转换机构

注意：因业务调整，暂不接受个人委托测试望见谅。